等離子拋光與化學(xué)拋光對(duì)比
化學(xué)拋光是利用酸堿化學(xué)藥劑將產(chǎn)品表面微觀凸起部分優(yōu)先溶解達(dá)到表面平滑的目的,這種方法的優(yōu)點(diǎn)是可以拋光復(fù)雜零件、效率高、拋光時(shí)間必須很準(zhǔn)確,質(zhì)量好壞核心是拋光液的配置、以及在拋光過程中的溶液監(jiān)控和添加、缺點(diǎn)拋光液不環(huán)保、控制不好會(huì)造成過拋或者腐蝕現(xiàn)象、且造成不可挽救的報(bào)廢。生產(chǎn)工藝流程:化學(xué)(或)除電化學(xué)油 → 熱水洗 → 流動(dòng)水洗 → 除銹(10%硫酸)→ 流動(dòng)水洗 → 化學(xué)拋光 → 流動(dòng)水洗 → 中和 → 流動(dòng)水洗 → 轉(zhuǎn)入下道表面處理工序 等離子拋光是靠拋光液通電形成等離子、在借助等離子轟擊產(chǎn)品凸起部分達(dá)到拋光目的的。它的優(yōu)點(diǎn)是產(chǎn)品復(fù)雜程度無影響,拋光效果可以達(dá)到Ra0.001表面粗糙度,拋光液環(huán)保無污染、對(duì)操作人員無身體傷害、拋光液在拋光過程中無需監(jiān)控。另外、拋光液不好強(qiáng)酸強(qiáng)堿、趨近于中性對(duì)環(huán)境影響很低,拋光效果好壞是靠拋光液成分配比決定的。
